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CADENCE et le centre d’innovation en nanotechnologies imec réalisent le premier circuit intégré de test de l’industrie en technologie de 3 nm
Les deux partenaires ont associé des outils numériques de Cadence aux technologies de lithographie par rayonnements dans l’ultra-violet extrême (EUV) et de photolithographie 193 nm à immersion (193i) d’imec pour concevoir un cœur de processeur en géométrie de 3 nm.
Imec, leader mondial dans le domaine de la recherche et de l’innovation en technologies nanoélectroniques et numériques, et Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ : CDNS) annoncent que leur collaboration de grande ampleur et de longue date a permis de réaliser avec succès le « tape-out » du premier circuit de test de l’industrie en géométrie de 3 nm. Dédié à l’amélioration de la conception de circuits intégrés en 3 nm, ce projet a été réalisé en associant des règles de dessin basées sur les technologies de lithographie par rayonnements dans l’extrême ultra-violet (EUV) et de photolithographie 193 nm à immersion (193i) d’imec à la solution de synthèse RTL Genus Synthesis et à la plateforme Innovus™ Implementation System de Cadence.