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HIBRIX I & II

HIBRIX I & II

Développement d'un système de livraison de faisceaux rayons X à haute brillance Développement d'un système de livraison de faisceaux rayons X à haute brillance

Terminé

Type de projet

FUI 3

Porteur de projet

Xenocs

Partenaires

Pfeiffer Vacuum SAS, Leti, INPG Entreprise SA, Soitec

Partenaires non-membres

NXP

Enjeux

Dans l'industrie semi-conducteur, la seule technologie de métrologie compatible jusqu'à ce jour avec des rendements de production de plus de 100 wafers par heure a été la métrologie optique. La réduction de la taille critique des dispositifs semi-conducteurs au nœud technologique 65 nm et au-delà pousse ces technologies à leur limite. La métrologie rayons X est reconnue comme la technologie de choix pour prendre le relai de la métrologie optique classique à partir du nœud 65 nm. Néanmoins les systèmes actuels ne permettent pas d'atteindre des niveaux de performance compatibles avec la métrologie en ligne pour les futurs nœuds technologiques.

Objectifs

XENOCS, en collaboration avec ALCATEL, CEA-LETI, INPG, NOVA, PHILIPS et SOITEC a pour objectif le développement d'un système innovant de délivrance de faisceaux rayons X à haute brillance pour des applications de métrologie semi-conducteur. Ce système se caractérisera par sa haute performance, sa compacité, sa stabilité et sa fiabilité. Il sera capable de délivrer un faisceau monochromatique de grande brillance (jusqu'à 15 fois la brillance des systèmes existants) sur un échantillon micrométrique. Ce système complet comprend les moyens de produire le rayonnement, ainsi qu'une optique à haut rendement pour la collecte et la micro focalisation du faisceau. Ce système sera étudié, conçu et testé pour répondre aux challenges de la métrologie semi-conducteur.

Projet infos page d'un projet

Investissement

4,583 K€

Durée

36 mois

Total effort

32,7 homme(s)/an