Créé en 2013, ce centre a été le premier du groupe HORIBA entièrement consacré aux activités R&D pour les semi-conducteurs. Il bénéficie aujourd’hui de l’accréditation ISO/IEC 17025 pour l’étalonnage des débits massiques de gaz, un élément clé dans l’amélioration de la qualité des régulateurs de débit massique (MFC), produits centraux de l’offre HORIBA STEC.

L’extension du site a permis de doubler les capacités des installations de calibration des débits de gaz et de test de vaporisation de liquides. Cette montée en puissance élargit les plages de mesure disponibles et renforce la capacité de l’entreprise à répondre aux exigences des procédés de fabrication de semi-conducteurs de nouvelle génération, notamment en matière de nouveaux matériaux.

Le nouveau bâtiment intègre également une Engineering Room, espace dédié au développement de technologies avancées. Les travaux menés sur site permettront notamment de concevoir des jumeaux numériques de haute précision, s’appuyant sur les expertises du groupe HORIBA en gestion et exploitation des données, afin d’améliorer les performances des MFC et d’accélérer les cycles d’innovation.

Cette dynamique s’inscrit en complémentarité avec la Kyoto Fukuchiyama Factory, actuellement en construction à proximité et dont la mise en service est prévue au printemps 2026. Ensemble, ces infrastructures visent à faciliter l’industrialisation rapide des technologies développées et à soutenir le développement de l’activité semi-conducteurs de HORIBA STEC.